某半导体技术制做工厂因晶圆拆洗流程所产生含氨工业废水，水流量200吨/天。工业废水面除化学需氧量外还包含氟化物和氢化物发生器巨资属，解决麻烦大。立即污染物规范标准追求化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水化学成分及收入 晶圆家电清洗废渣（主耍來源）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工步废水处理：含进样器铜、镍等天价属，pH值下降大 CMP考虑生活污水：含硅颗粒肥料及氯离子 治理生产工艺步奏 进行"普通机械放置+膜提取+折点氯化"组合构成施工工艺： 预进行处理 ：加药系统CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 反渗透膜软件系统 ：避开0.01μm以下粒子物 ro反渗透到浓缩造成 ：将化学需氧量提液至1000mg/L之上 折点氯化 ：正确的控制氯加药量，将氯离子转变为氦气 铁离子交流 ：确保巨资属合格 终极成效 化学需氧量稳定性高＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属纯度降至探测限 水中水回用率达75% 废水带来量才能减少40%